´º½º > »ê¾÷ > »ê¾÷

¾ÆÀÌÆù11S A14AP, TSMC 5nm °øÁ¤ Àû¿ë 'Àü·ÂÈ¿À² ¹× ¼º´É UP'

  • º¸µµ : 2019.04.09 11:17
  • ¼öÁ¤ : 2019.04.09 11:17

¾ÆÀÌÆù11S

¾ÖÇÃÀÇ A½Ã¸®Áî AP(¾ÖÇø®ÄÉÀÌ¼Ç ÇÁ·Î¼¼¼­)¸¦ Á¦Á¶ÇÏ´Â ´ë¸¸ÀÇ TSMC°¡ ¿Ïº®ÇÑ 5nm ¼³°è±â¼úÀ» ¿Ï¼ºÇÔ¿¡ µû¶ó Â÷±â ¾ÆÀÌÆù¿¡ žÀç°¡´É¼ºÀÌ ³ô¾ÆÁ³´Ù.

´ë¸¸ÀÇ ITÀü¹® º¸µµ¸Åü µðÁöŸÀÓÁî´Â TSMC¿Í OIP(°³¹æÇü Çõ½Å Ç÷§Æû) ³»¿¡¼­ 5nm(³ª³ë¹ÌÅÍ, 1nm´Â 10¾ïºÐÀÇ 1m)°øÁ¤À» À§ÇÑ ¼³°è ÀÎÇÁ¶ó¸¦ ¿Ïº®È÷ Á¦°øÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ±â¼úÀ» È®º¸Çß´Ù°í 8ÀÏ º¸µµÇß´Ù.

°ø°³µÈ 5nm ½Ã½ºÅÛ ¿Â Ĩ(Systems-on-chip, SoC)Àº ³ôÀº ¼ºÀåÀÌ ¿¹»óµÇ´Â 5G(5¼¼´ë À̵¿Åë½Å)¿Í ÀΰøÁö´É(AI) ½ÃÀåÀ» °Ü³ÉÇÑ Â÷¼¼´ë ¸ð¹ÙÀÏ Á¦Ç° ¹× °í¼º´É ÄÄÇ»ÆÃ(HPC) ¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ÇÀÇ ¼³°è°¡ °¡´ÉÇÏ´Ù.

TSMC´Â ¼±µµÀû EDA(Ž»öÀû ÀÚ·á ºÐ¼®, Exploratory data analysis) ¹× IP º¥´õµéÀÌ ´Ù¾çÇÑ ½ÃÇè¿ë ´Ü¸»±â¸¦ ÅëÇØ ±â¼úÆÄÀÏ°ú PDK(process design kit, °øÁ¤ ¼³°è Å°Æ®), Åø(µµ±¸), ÇÃ·Î¿ì ¹× IP µîÀ» Æ÷ÇÔÇÑ ¿Ïº®ÇÑ ¼³°è ÀÎÇÁ¶ó¸¦ °³¹ßÇÏ°í °ËÁõÇϱâ À§ÇØ Çù·ÂÇÏ°í ÀÖ´Ù°í ¹àÇû´Ù.

°³¹ßµÈ 5nm °øÁ¤Àº ÀÌ¹Ì À§Çè »ý»ê(risk production) »ý»ê´Ü°è¿¡ Á¢¾îµé¾úÀ¸¸ç ICĨ ¼³°èÀڵ鿡°Ô Â÷¼¼´ë °í±Þ ¸ð¹ÙÀÏ ¹× HPC ¾ÖÇø®ÄÉÀ̼ÇÀ» À§ÇÑ »õ·Î¿î ¼öÁØÀÇ ¼º´É°ú ÃÖÀûÈ­µÈ Àü·Â ¼Òºñ¸¦ Á¦°øÇÑ´Ù.

ÇöÀç ÁÖ·ÂÀÎ 7nm°øÁ¤°ú ºñ±³ÇØ Çõ½ÅÀûÀÎ ½ºÄÉÀϸµ ±â´ÉÀº ARM ÄÚ¾îÅؽº-A72 Äھ ±âÁØÀ¸·Î 1.8¹èÀÇ ·ÎÁ÷ ¹Ðµµ¿Í 15% ÀÌ»óÀÇ ¼ÓµµÇâ»ó°ú Ź¿ùÇÑ S·¥(SRAM) ¹× °øÁ¤ ±¸Á¶(process architecture)·Î ±¸Çö °¡´ÉÇÑ ¾Æ³¯·Î±× ¸éÀûÀÇ Ãà¼Ò°¡ °¡´ÉÇÏ´Ù.

5nm °øÁ¤Àº EUV(³ë±¤ Àåºñ) ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ(lithography, ¹Ì¼¼ÇÏ°í º¹ÀâÇÑ ÀüÀÚȸ·Î¸¦ ¹ÝµµÃ¼ ±âÆÇ¿¡ ±×·Á ÁýÀûȸ·Î¸¦ ¸¸µå´Â ±â¼ú)°¡ Á¦°øÇÏ´Â °øÁ¤´Ü¼øÈ­ÀÇ ÀÌÁ¡À» ÅëÇØ ¼öÀ²¿¡¼­ Ź¿ùÇÑ ¼º°ú¸¦ ³ªÅ¸³»°í ÀÖ´Ù°í ȸ»ç ÃøÀº ÁÖÀåÇß´Ù.

TSMCÀÇ Æ÷°ýÀû 5nm ¼³°è ÀÎÇÁ¶ó¿¡´Â 5nm µðÀÚÀÎ ·ê ¸Å´º¾ó(DRM), SPICE(ÀüÀÚ È¸·Î ½Ã¹Ä·¹À̼Ç) ¸ðµ¨, PDK ¹× ÀÎÅÍÆäÀ̽ºIPÀÇ Àüü ¹öÀüÀÌ Æ÷ÇԵŠÀÖÀ¸¸ç ÀÎÁõµÈ EDA Åø°ú ¼³°è Ç÷οì(°úÁ¤)ÀÇ ¸ðµç ¹üÀ§¸¦ Áö¿øÇÑ´Ù.

R&D ¹× ±â¼ú´ã´ç ºÎ»çÀå Ŭ¸®ÇÁ ÇÏ¿ì(Cliff Hou)´Â ¡°¿ì¸®ÀÇ 5nm ±â¼úÀº AI ¹× 5G È°¼ºÈ­¿¡ µû¶ó ±âÇϱ޼öÀûÀÎ Áõ°¡°¡ ¿¹»óµÇ´Â ÄÄÇ»Æà ÆÄ¿ö¿¡ ´ëÇÑ ¼ö¿ä¸¦ ÃæÁ·½ÃÅ°±â À§ÇØ ¾÷°è¿¡¼­ °¡Àå Çõ½ÅÀûÀÎ ·ÎÁ÷ ÇÁ·Î¼¼½º¸¦ Á¦°øÇÒ ¿¹Á¤¡±À̶ó¸ç ¡°À̸¦ À§ÇØ ¿¡ÄڽýºÅÛ ÆÄÆ®³Ê¿ÍÀÇ Çù·ÂÀ» °­È­ÇØ °í°´»çµéÀÌ »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ½Ç¸®ÄÜ °ËÁõIP ºí·Ï ¹× EDA ÅøÀ» Á¦°øÇÏ°Ú´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.

ÇÑÆí TSMC´Â ¿À·§µ¿¾È ¾ÖÇÃÀÇ A½Ã¸®Áî Ĩ¼ÂÀ» °ø±ÞÇØ ¿À°í ÀÖÀ¸¸ç ³»³â °ø±ÞÇÒ 5nm A14 Ĩ¼ÂÀº ¹°·Ð 2022³â º»°Ý »ý»êÀ» ½ÃÀÛÇÒ 3nm ĨÀÇ °ø±Þµµ ¿¹Á¤µÅ ÀÖ´Ù. ÀÌ·Î½á ¾ÖÇÃÀº »ï¼ºÀüÀÚ µî ¾Èµå·ÎÀ̵å Áø¿µ¿¡ ´ëÇÑ ¼Óµµ°æÀïÀº ¹°·Ð Àü·Â ¼Òºñ¿¡¼­µµ ¾ÈÁ¤ÀûÀÎ ¿ìÀ§¸¦ À̾ ¼ö ÀÖ´Â Åä´ë°¡ ¸¶·ÃµÈ ¼ÀÀÌ´Ù.

°ü·Ã±â»ç